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●本设备为立式真空磁控溅射镀膜机,运用三个磁控溅射靶,通过磁控溅射的方式在基片的表面形成膜层。 ●该设备为箱式结构,立式前开门。箱体采样优质不锈钢,外侧壁焊接冷却水管,真空室设置有观察窗。 ●工转系统采用齿轮行星式工转,交流电机驱动,工转速度0-30rpm可调。
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